- Frei von NaOH und KOH
- Höhere Standzeit der Lösung
- Größerer Entwicklungsspielraum
- Größere Entwicklungssicherheit
- Gesteigerte Konturenschärfe
SENO 4007 ist ein neues NaOH-und KOH-freies Pulverkonzentrat zum Entwickeln von allen handelsüblichen Photopositiv-Lacken und photoposi tiv beschichtetem Basismaterial.
Gegenüber dem gefährlichen NaOH (Ätznatron) bzw. KOH (Kaliumhydroxyd) hat SENO 4007 einen breiteren Sicherheitsspielraum. SENO 4007 entwickelt schonend mit hoher Konturenschärfe.
SENO 4007 Universalentwickler ist daher, als ideale Alternative zum Ätznatron, besonders für Hobby und Ausbildung in Schulen und Lehrbetrieben geeignet.
Für die professionelle Entwicklung in Maschinen oder Küvetten empfehlen wir das ebenfalls Na- OH- und KOH-freie SENO 4006 Spezialentwickllerkonzentrat (flüssig), das kürzeste Entwicklungszeiten (typ. 15 sec.) bei extremer Auflösung und Arbeitssicherheit gewährleistet und sehr wirtschaftlich ist, da 1 l Konzentrat ca. 15 l Entwicklerlösung ergibt.